MASCA Nanomask Acid Hialuronic

100,00 lei (TVA inclus)

COMPOZIȚIE
Acid hialuronic
Pantenol

INDICAȚIE
Piele deshidratată și/sau deteriorată

PROPRIETĂȚI
Acidul hialuronic (AH) acționează la diferite niveluri ale pielii datorită formulării sale cu 3 greutăți moleculare diferite: AH non-lipozomal, care asigură finețe și hidratare instanta la nivelul 1, AH lipozomal cu greutate moleculara mică, pentru a reduce ridurile fine (nivel 2) si AH lipozomal cu greutate moleculară foarte mică ce asigura o hidratare intensă și repară ridurile adânci (nivelul 3)
Pantenolul are proprietăți hidratante.

Sesderma oferă gamă largă de măști faciale pentru utilizare profesională construite dintr-o matrice de bioceluloză și îmbibate cu ingredientele active încapsulate în lipozomi, pentru îmbunătățirea eficacității și penetrării pielii. Piele deshidratată și/sau deteriorată.

Transport gratuit la comenzi de minim 500 lei!
Recenzii (0)

Recenzii

Nu există recenzii până acum.

Fii primul care adaugi o recenzie la „MASCA Nanomask Acid Hialuronic”

Adresa ta de email nu va fi publicată. Câmpurile obligatorii sunt marcate cu *

You have to be logged in to be able to add photos to your review.